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2010年01月04日

平成21年度第1回みやざき新事業創出セミナー

シリカナノ粒子ハニカム利用技術の紹介

□開催日時
  平成22年1月29日(金)午後1時30分から午後3時30分まで
□開催場所
ウエルシティ宮崎(宮崎厚生年金会館) 宮崎市宮崎駅東1丁目2-8 TEL (0985)23-3311
□セミナー内容
 (1)原理・装置・システムの説明 <40分>
  吸着技術工業株式会社  代表取締役社長 泉 順 氏
     独自のシリカナノ粒子のハニカムを用いた気相及び液相での吸着反応更には真空圧力スイング法(VPSA)の原理・システム等の説明
 (2)排水処理・悪臭除去利用技術の説明<30分>
   株式会社アイテック  新技術部主任研究員 片山 繁隆 氏
     コンパクトで低コストな放流前の排水の色を除去する装置や産業廃棄物処理設備の悪臭を除去する装置等の説明
(3)VOC処理技術の実例紹介<30分>
   ミノテック環境浄化省エネサービス  代表 美濃部 光彦 氏
     排気系溶剤処理の問題点等の説明及び実際に日本ペイント㈱殿にて稼働中の3600m3/hrのVOC処理装置の紹介
□主催 (財)宮崎県産業支援財団、みやざき産業クラスター推進協議会
□定員 50名(先着順)
□参加費 無料
□申込方法
  別紙申込書に必要事項をご記入の上FAXいただくか、氏名、所属、連絡先(電話番号・
FAX番号・e-mailアドレス)を記載して、下記メールアドレスに送信ください。
□申込期限 平成22年1月15日(金)
□連絡先
   財団法人宮崎県産業支援財団産学官連携推進課 吉元 又は 日吉宛
FAX:0985-74-3950
メール宛先:s-yoshimoto@i-port.or.jp